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　　拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。本產品性能穩(wěn)定、無毒，對環(huán)境無污染等作用。

　　金剛石拋光液的使用方法:

　　包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產品經(jīng)過研磨以后，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光;

　　1.拋光劑投放量為(根據(jù)不同產品的大小，光飾機的大小和各公司的產品光亮度要求進行適當配置)，

　　2:拋光時間:根據(jù)產品的狀態(tài)來定。

　　3.拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

　　金剛石拋光液包括聚晶、單晶和納米3種不同類型的拋光液。金剛石拋光液由優(yōu)質金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成，配方多樣化，對應不同的研拋過程和工件，適用性強。產品分散性好、粒度均勻、規(guī)格齊全、質量穩(wěn)定，廣泛用于硬質材料的研磨和拋光。

　　制作步驟

　　依據(jù)機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光(CMP)機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個復雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程:

　　(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。

　　(2)拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。

　　硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。